Additive for composition for forming resist underlayer film and composition for forming resist underlayer film comprising the same

WO2010074075 Art A1 1. Juli 2010

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010074075
Aktenzeichen: EP09834876
Anmeldetag: 22. Dezember 2009
Veröffentlichung: 1. Juli 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08F212/14G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von