Reflective mask blank and reflective mask manufacturing method

WO2010074125 Art A1 1. Juli 2010

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010074125
Aktenzeichen: EP09834923
Anmeldetag: 24. Dezember 2009
Veröffentlichung: 1. Juli 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F1/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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