Method for forming an antireflective grating pattern, and method for manufacturing an optical device with an integrated antireflective grating pattern

WO2010074486 Art A2 1. Juli 2010

Anmelder: Gwangju Institute of Science and Technology 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010074486
Aktenzeichen: EP09835252
Anmeldetag: 22. Dezember 2009
Veröffentlichung: 1. Juli 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G02B1/11G02B5/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Gwangju Institute of Science and Technology
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Gwangju Institute of Science and Technology

Das Gwangju Institute of Science and Technology ist eine staatliche technische Hochschule in Südkorea mit Schwerpunkt auf Natur- und Ingenieurwissenschaften. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Medizintechnik, ergänzt durch Mess- und Prüftechnik sowie organische Chemie. Anmeldungen reichen von 2004 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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