Enhancement of dry etch of high aspect ratio features using fluorine

WO2010077802 Art A1 8. Juli 2010

Anmelder: Linde AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010077802
Aktenzeichen: EP09836801
Anmeldetag: 14. Dezember 2009
Veröffentlichung: 8. Juli 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/302

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Linde AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Linde

Deutscher Industriegasekonzern mit Wurzeln in München, gegründet 1879. Entwickelt und liefert technische Gase sowie Anlagen zur Gasverarbeitung für Industrie, Medizin und Energiewirtschaft.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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