Plasma processing apparatus

WO2010079753 Art A1 15. Juli 2010

Anmelder: ULVAC, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010079753
Aktenzeichen: EP10729173
Anmeldetag: 6. Januar 2010
Veröffentlichung: 15. Juli 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205C23C16/455C23C16/505H01L31/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ULVAC, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 ULVAC

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chigasaki, spezialisiert auf Vakuumtechnik sowie Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung.

444 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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