Method for manufacturing glass substrate for mask blank, method for manufacturing mask blank and method for manufacturing photomask for exposure

WO2010079771 Art A1 15. Juli 2010

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010079771
Aktenzeichen: EP10729191
Anmeldetag: 5. Januar 2010
Veröffentlichung: 15. Juli 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/14G01N21/64G01N21/958

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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