Higher-order silane composition and method for producing substrate with film

WO2010079842 Art A1 15. Juli 2010

Anmelder: Japan Science and Technology Agency 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010079842
Aktenzeichen: EP10729260
Anmeldetag: 7. Januar 2010
Veröffentlichung: 15. Juli 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C01B33/04H01L21/208H01L21/316C01B33/02C01B33/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Japan Science and Technology Agency
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Japan Science and Technology Agency

Japanische staatliche Förderorganisation für Wissenschaft und Technologie, die Forschungsprojekte finanziert und den Technologietransfer zwischen Universitäten und Industrie unterstützt. Die Behörde untersteht dem japanischen Bildungsministerium.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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