Ion implantation with diminished scanning field effects

WO2010080097 Art A1 15. Juli 2010

Anmelder: Axcelis Technologies, Inc 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010080097
Aktenzeichen: EP09801839
Anmeldetag: 10. Dezember 2009
Veröffentlichung: 15. Juli 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Axcelis Technologies, Inc
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Axcelis Technologies

Axcelis Technologies, Inc. ist ein US-amerikanischer Hersteller von Ionenimplantationsanlagen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Beverly, Massachusetts. Das Patentportfolio ist fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente konzentriert, ergänzt um Oberflächentechnik und Mess- und Prüftechnik. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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