Euv lithography system and cable for the same

WO2010081721 Art A1 22. Juli 2010

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010081721
Aktenzeichen: EP10700305
Anmeldetag: 15. Januar 2010
Veröffentlichung: 22. Juli 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01B7/17

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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