Plasma cvd apparatus

WO2010082467 Art A1 22. Juli 2010

Anmelder: ULVAC, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010082467
Aktenzeichen: EP10731138
Anmeldetag: 12. Januar 2010
Veröffentlichung: 22. Juli 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44H01L21/205H01L21/31

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ULVAC, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 ULVAC

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chigasaki, spezialisiert auf Vakuumtechnik sowie Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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