Charged particle radiation device provided with aberration corrector

WO2010082489 Art A1 22. Juli 2010

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010082489
Aktenzeichen: EP10731158
Anmeldetag: 14. Januar 2010
Veröffentlichung: 22. Juli 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/22H01J37/153H01J37/21

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von