Dark-field defect inspection method, dark-field defect inspection device, aberration analysis method and aberration analysis device

WO2010084884 Art A1 29. Juli 2010

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010084884
Aktenzeichen: EP10733491
Anmeldetag: 20. Januar 2010
Veröffentlichung: 29. Juli 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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