Etching system and method for forming multiple porous semiconductor regions with different optical and structural properties on a single semiconductor wafer

WO2010086059 Art A1 5. August 2010

Anmelder: International Business Machines Corporation, Globalfoundries Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010086059
Aktenzeichen: EP09796666
Anmeldetag: 9. Dezember 2009
Veröffentlichung: 5. August 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C25F7/00C25F3/14H01L21/3063

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: International Business Machines Corporation
Globalfoundries Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 IBM

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.

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🇰🇾 GlobalFoundries

GlobalFoundries ist ein Halbleiterhersteller, der als Auftragsfertiger (Foundry) Chips für zahlreiche Kunden produziert; die Gesellschaft ist auf den Cayman Islands registriert. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Software. Die Anmeldungen von 2000 bis 2018 betreffen unter anderem Kontaktstrukturen und Fertigungsverfahren für Halbleiterbauelemente.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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