Developable bottom antireflective coating compositions especially suitable for ion implant applications and method of forming a pattern using it

WO2010086288 Art A1 5. August 2010

Anmelder: International Business Machines Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010086288
Aktenzeichen: EP10701849
Anmeldetag: 25. Januar 2010
Veröffentlichung: 5. August 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/09G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: International Business Machines Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 IBM

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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