Molecular fluorine etching of silicon thin films for photovoltaic and other lower-temperature chemical vapor deposition processes

WO2010087930 Art A1 5. August 2010

Anmelder: Linde AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010087930
Aktenzeichen: EP09839479
Anmeldetag: 28. Dezember 2009
Veröffentlichung: 5. August 2010
Rechtsraum: WO
IPC: B08B7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Linde AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Linde

Deutscher Industriegasekonzern mit Wurzeln in München, gegründet 1879. Entwickelt und liefert technische Gase sowie Anlagen zur Gasverarbeitung für Industrie, Medizin und Energiewirtschaft.

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Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

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