Mask inspection apparatus and image creation method

WO2010089954 Art A1 12. August 2010

Anmelder: Advantest Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010089954
Aktenzeichen: EP10738298
Anmeldetag: 14. Januar 2010
Veröffentlichung: 12. August 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08G01N23/225H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Advantest Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Advantest

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, Hersteller von Testsystemen für Halbleiter und elektronische Bauteile.

610 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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