Semiconductor inspection method and device that consider the effects of electron beams

WO2010089960 Art A1 12. August 2010

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010089960
Aktenzeichen: EP10738304
Anmeldetag: 20. Januar 2010
Veröffentlichung: 12. August 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66G01R31/28H01J37/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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