Insulating film material, and film formation method utilizing the material, and insulating film

WO2010090038 Art A1 12. August 2010

Anmelder: National Institute for Materials Science, Taiyo Nippon Sanso Corporation, TRI Chemical Laboratories Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010090038
Aktenzeichen: EP10738379
Anmeldetag: 5. Februar 2010
Veröffentlichung: 12. August 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/42H01L21/312H01L21/316H01L21/768H01L23/522

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: National Institute for Materials Science
Taiyo Nippon Sanso Corporation
TRI Chemical Laboratories Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute for Materials Science

Japanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Tsukuba, das auf Materialwissenschaft und Werkstoffforschung spezialisiert ist.

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🇯🇵 Taiyo Nippon Sanso

Taiyo Nippon Sanso ist ein japanischer Hersteller von Industriegasen und zugehörigen Anlagen, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Der Patentbestand konzentriert sich auf Verfahrens- und Trenntechnik sowie Wärme-, Fertigungs- und Werkstofftechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von