Insulating film material, and film formation method utilizing the material, and insulating film
WO2010090038
Art A1
12. August 2010
Anmelder: National Institute for Materials Science, Taiyo Nippon Sanso Corporation, TRI Chemical Laboratories Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010090038
- Aktenzeichen
- EP10738379
- Anmeldetag
- 5. Februar 2010
- Veröffentlichung
- 12. August 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C16/42H01L21/312H01L21/316H01L21/768H01L23/522
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- National Institute for Materials Science
Taiyo Nippon Sanso Corporation
TRI Chemical Laboratories Inc. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
National Institute for Materials Science
Japanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Tsukuba, das auf Materialwissenschaft und Werkstoffforschung spezialisiert ist.
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