Photoresist compositions and methods of use

WO2010091927 Art A1 19. August 2010

Anmelder: International Business Machines Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010091927
Aktenzeichen: EP10701013
Anmeldetag: 22. Januar 2010
Veröffentlichung: 19. August 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C08F2/00G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: International Business Machines Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 IBM

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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