Wavefront aberration measuring method and device therefor
WO2010092750
Art A1
19. August 2010
Anmelder: Hitachi, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010092750
- Aktenzeichen
- EP10741030
- Anmeldetag
- 22. Januar 2010
- Veröffentlichung
- 19. August 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01M11/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi
Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.
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