Substrate for mask blank use, mask blank, and photo mask

WO2010092937 Art A1 19. August 2010

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010092937
Aktenzeichen: EP10741214
Anmeldetag: 9. Februar 2010
Veröffentlichung: 19. August 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/14B24B9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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