Polymer, radiation-sensitive composition, and monomer
WO2010095698
Art A1
26. August 2010
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010095698
- Aktenzeichen
- EP10743824
- Anmeldetag
- 18. Februar 2010
- Veröffentlichung
- 26. August 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08F20/16C08F212/04C08F220/16C08F220/54G03F7/004G03F7/039H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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