Beam Pen Lithography

WO2010096593 Art A2 26. August 2010

Anmelder: Northwestern University 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010096593
Aktenzeichen: EP10744317
Anmeldetag: 18. Februar 2010
Veröffentlichung: 26. August 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Northwestern University
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Northwestern University

Private US-amerikanische Universität mit Hauptsitz in Evanston, Illinois, bekannt für Forschung in Ingenieurwissenschaften, Medizin und Materialwissenschaften.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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