Charged particle beam device

WO2010097861 Art A1 2. September 2010

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010097861
Aktenzeichen: EP09840715
Anmeldetag: 23. Oktober 2009
Veröffentlichung: 2. September 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/244H01J37/20H01J37/28H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von