Device for examining pattern on surface of substrate and method for examining pattern

WO2010098000 Art A1 2. September 2010

Anmelder: Hitachi, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010098000
Aktenzeichen: EP09840847
Anmeldetag: 10. Dezember 2009
Veröffentlichung: 2. September 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/956G01B11/30G01Q60/18G11B5/84G01N21/27

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi

Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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