Defect observation method and defect observation device

WO2010098004 Art A1 2. September 2010

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010098004
Aktenzeichen: EP09840851
Anmeldetag: 21. Dezember 2009
Veröffentlichung: 2. September 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G01N23/225G01N21/956H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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