Silicon epitaxial wafer and method for manufacturing silicon epitaxial wafer

WO2010098012 Art A1 2. September 2010

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010098012
Aktenzeichen: EP10745901
Anmeldetag: 28. Januar 2010
Veröffentlichung: 2. September 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205C30B29/06H01L21/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von