Gate valve and method of opening/closing the gate valve

WO2010101014 Art A1 10. September 2010

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010101014
Aktenzeichen: EP10748610
Anmeldetag: 12. Februar 2010
Veröffentlichung: 10. September 2010
Rechtsraum: WO
IPC: F16K5/04B65G49/00F16K39/06F16K51/02

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Maschinenelemente & Fluidtechnik Verpackungs- & Fördertechnik

Vertreten von