Flare-measuring mask, flare-measuring method, and exposure method

WO2010101048 Art A1 10. September 2010

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010101048
Aktenzeichen: EP10709576
Anmeldetag: 17. Februar 2010
Veröffentlichung: 10. September 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/14G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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