Method for forming cvd-ru film and method for manufacturing semiconductor devices

WO2010103930 Art A1 16. September 2010

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010103930
Aktenzeichen: EP10750684
Anmeldetag: 25. Februar 2010
Veröffentlichung: 16. September 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3205C23C16/18H01L21/285H01L23/52

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von