Substrate processing apparatus, trap device, method for controlling substrate processing apparatus, and method for controlling trap device

WO2010103953 Art A1 16. September 2010

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010103953
Aktenzeichen: EP10750707
Anmeldetag: 1. März 2010
Veröffentlichung: 16. September 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/31C23C16/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von