Pattern inspecting apparatus and pattern inspecting method

WO2010106837 Art A1 23. September 2010

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010106837
Aktenzeichen: EP10753332
Anmeldetag: 1. Februar 2010
Veröffentlichung: 23. September 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66G01N23/225G06T1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Software & Datenverarbeitung

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