Raw material for chemical vapor deposition, and process for forming silicon-containing thin film using same

WO2010106859 Art A1 23. September 2010

Anmelder: Adeka Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010106859
Aktenzeichen: EP10753354
Anmeldetag: 15. Februar 2010
Veröffentlichung: 23. September 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/34C07F7/12C23C16/42H01L21/205H01L21/318

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Adeka Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 ADEKA Corporation

ADEKA Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das Additive für Kunststoffe, Lebensmittelzutaten und Spezialchemikalien herstellt.

1.066 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie

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