Electron beam lithography system and electron beam lithographing method

WO2010109655 Art A1 30. September 2010

Anmelder: Advantest Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010109655
Aktenzeichen: EP09842269
Anmeldetag: 27. März 2009
Veröffentlichung: 30. September 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Advantest Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Advantest

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, Hersteller von Testsystemen für Halbleiter und elektronische Bauteile.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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