Film thickness measurement device and measurement method

WO2010109933 Art A1 30. September 2010

Anmelder: Hamamatsu Photonics K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010109933
Aktenzeichen: EP10755734
Anmeldetag: 20. Januar 2010
Veröffentlichung: 30. September 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G01B11/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hamamatsu Photonics K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hamamatsu Photonics

Japanisches Unternehmen für Photonik mit Sitz in Hamamatsu, spezialisiert auf Photodetektoren, Bildsensoren, Laser und optische Messtechnik für Wissenschaft und Industrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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