Manufacturing method for substrate for mask blank, mask blank, photo mask, and semiconductor device

WO2010110139 Art A1 30. September 2010

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010110139
Aktenzeichen: EP10755937
Anmeldetag: 17. März 2010
Veröffentlichung: 30. September 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/14H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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