Radiation-sensitive resin composition and polymer
WO2010110236
Art A1
30. September 2010
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010110236
- Aktenzeichen
- EP10756032
- Anmeldetag
- 23. März 2010
- Veröffentlichung
- 30. September 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/039C08F212/14C08F220/30C08F220/58G03F7/004
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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