Anchoring inserts, electrode assemblies, and plasma processing chambers
WO2010111055
Art A2
30. September 2010
Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010111055
- Aktenzeichen
- EP10756583
- Anmeldetag
- 15. März 2010
- Veröffentlichung
- 30. September 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H05H1/34H01L21/3065H01L21/203H01L21/205H01L21/265
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LAM Research Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
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