Film forming device, film forming method, and organic el element

WO2010113659 Art A1 7. Oktober 2010

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010113659
Aktenzeichen: EP10758435
Anmeldetag: 18. März 2010
Veröffentlichung: 7. Oktober 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H05B33/10C23C14/12C23C14/24C23C14/56H01L51/50

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von