Base-generating agent, photosensitive resin composition, patterning material comprising the photosensitive resin composition, patterning method and article using the photosensitive resin composition

WO2010113813 Art A1 7. Oktober 2010

Anmelder: Dai Nippon Printing Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010113813
Aktenzeichen: EP10758585
Anmeldetag: 26. März 2010
Veröffentlichung: 7. Oktober 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C09K3/00C07D295/18C07D309/12C07D317/64C08K5/04C08L101/00C09D7/12C09D11/00C09D201/00C09J11/06C09J179/04C09J179/08C09J201/00C09J201/02G03F7/004G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Dai Nippon Printing Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Dai Nippon Printing

Japanisches Unternehmen der Druckindustrie mit Sitz in Tokio, das sich über klassische Druckerzeugnisse hinaus in Elektronikmaterialien, Displaykomponenten und Verpackungslösungen diversifiziert hat.

1.824 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von