Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and resist film and pattern forming method using the composition

WO2010114176 Art A1 7. Oktober 2010

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010114176
Aktenzeichen: EP10758936
Anmeldetag: 31. März 2010
Veröffentlichung: 7. Oktober 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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