Using electric-field directed post-exposure bake for double patterning (d-p)

WO2010114716 Art A1 7. Oktober 2010

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010114716
Aktenzeichen: EP10759206
Anmeldetag: 18. März 2010
Veröffentlichung: 7. Oktober 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/461

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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