Photoresist material, photoresist film, etching method using same, and novel azo dye compound

WO2010116594 Art A1 14. Oktober 2010

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010116594
Aktenzeichen: EP10761302
Anmeldetag: 26. Februar 2010
Veröffentlichung: 14. Oktober 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C09B69/04C07D231/38C07D403/14C07D417/12C07D487/04C09B29/46C09B29/48C09B29/50C09B33/13G03F7/004G03F7/36H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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