Method for forming resist pattern, and device
WO2010116647
Art A1
14. Oktober 2010
Anmelder: Sekisui Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010116647
- Aktenzeichen
- EP10761355
- Anmeldetag
- 25. März 2010
- Veröffentlichung
- 14. Oktober 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/38G03F1/08H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Sekisui Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sekisui Chemical
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Osaka, tätig in den Bereichen Hochleistungskunststoffe, Bauelemente und elektronische Materialien.
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