Method for producing semiconductor substrate and semiconductor substrate

WO2010116701 Art A1 14. Oktober 2010

Anmelder: Sumitomo Chemical Company, Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010116701
Aktenzeichen: EP10761405
Anmeldetag: 2. April 2010
Veröffentlichung: 14. Oktober 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/20H01L21/331H01L21/338H01L29/737H01L29/778H01L29/812

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sumitomo Chemical Company, Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Chemical

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Petrochemie, Agrochemie, Pharmazeutika, Elektronikmaterialien, Energiematerialien und Kunststoffen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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