Systems and methods for protecting an euv light source chamber from high pressure source material leaks

WO2010117801 Art A1 14. Oktober 2010

Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010117801
Aktenzeichen: EP10762185
Anmeldetag: 30. März 2010
Veröffentlichung: 14. Oktober 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G01J3/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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