System, method and apparatus for aligning and synchronizing target material for optimum extreme ultraviolet light output

WO2010117861 Art A1 14. Oktober 2010

Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010117861
Aktenzeichen: EP10762222
Anmeldetag: 31. März 2010
Veröffentlichung: 14. Oktober 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G01J3/10

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Cymer, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

399 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von