Method for chamfering wafer

WO2010119765 Art A1 21. Oktober 2010

Anmelder: Daito Electron Co., Ltd., Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010119765
Aktenzeichen: EP10764350
Anmeldetag: 30. März 2010
Veröffentlichung: 21. Oktober 2010
Rechtsraum: WO
IPC: B24B9/00B24B1/00B24B17/04H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Daito Electron Co., Ltd.
Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.022 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von

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