Diazasilacyclopentene derivative, method for producing same, and method for producing silicon-containing thin film
WO2010119827
Art A1
21. Oktober 2010
Anmelder: Tosoh Corporation, Sagami Chemical Research Center 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010119827
- Aktenzeichen
- EP10764411
- Anmeldetag
- 12. April 2010
- Veröffentlichung
- 21. Oktober 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C07F7/18C23C16/42
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Tosoh Corporation
Sagami Chemical Research Center - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tosoh Corporation
Japanisches Chemieunternehmen, das Petrochemikalien, Spezialchemikalien und Zement herstellt.
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