Surface microstructure measuring method, surface microstructure measurement data analyzing method, and x-ray scattering measuring device
WO2010119844
Art A1
21. Oktober 2010
Anmelder: Rigaku Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010119844
- Aktenzeichen
- EP10764428
- Anmeldetag
- 12. April 2010
- Veröffentlichung
- 21. Oktober 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01B15/04G01N23/201
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Rigaku Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Rigaku
Rigaku ist ein japanischer Hersteller wissenschaftlicher Analysegeräte, insbesondere für Röntgendiffraktion und Röntgenfluoreszenz. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik, ergänzt durch Halbleiter- und Elektrotechnik-Anmeldungen. Der Anmeldezeitraum reicht von 2000 bis 2025.
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